在半导体行业的高精度制造过程中，温度控制的准确性直接决定了工艺的质量与效率。尤其在清洗FOUP盒和EUV掩模盒等关键环节中，高温环境不仅加速清洁进程，更是实现制程可重复性的核心保障。如何实现介质温度的精确配比与稳定维持，是成为提升整体良率的关键挑战。

工艺描述

为实现高效与精密的半导体制造过程，介质必须达到设定温度并保持高度恒定。这一要求在清洗工艺中尤为突出，通常需借助高温实现彻底清洁。整个工艺的可重复性很大程度上依赖于生产过程中介质温度的稳定维持，而上游温度监测系统正是实现这一目标的核心保障。

盖米应用

在FOUP盒与EUV光罩盒的清洗过程中，高温被用于加速清洁过程。图示设计能够非常精准地控制热水流量，这里的挑战在于需要非常精准地对工厂供给的常温与高温去离子水进行配比与调节。为此，除了提供简单的分配模块外，盖米还专门研发了一种用于混合应用的特殊解决方案。

EUV光掩膜清洗系统设计示意图

盖米复杂混合应用解决方案：FOUP清洗

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洁净室制造，SEMI F57

盖米阀门依托多年技术积累与行业洞察，专为半导体高温混合应用打造高可靠性阀门解决方案，有效应对精密生产中的温度控制挑战，为客户提供稳定、耐用且重复性优异的流体控制保障。